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CMP用研磨パッド関連技術、特許総合力トップ3は東洋ゴム工業、米・APPLIED MATERIALS、米・ROHM AND HAAS

CMP用研磨パッド関連技術、特許総合力トップ3は東洋ゴム工業、米・APPLIED MATERIALS、米・ROHM AND HAAS 弊社はこのほど、日本に出願されたCMP用研磨パッド関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。 CMP(化学機械研磨)は研磨パッドを動かすことにより、スラリーがキャリアの凹凸を研磨することから、研磨パッドの材質や形状、各種物性値等が研磨特性に大きく関わってきます。本調査ではCM

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