「CMP」に関する調査データ一覧 | 調査のチカラ

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CMP用研磨パッド関連技術、特許総合力トップ3は東洋ゴム工業、米・APPLIED MATERIALS、米・ROHM AND HAAS

CMP用研磨パッド関連技術、特許総合力トップ3は東洋ゴム工業、米・APPLIED MATERIALS、米・ROHM AND HAAS 弊社はこのほど、日本に出願されたCMP用研磨パッド関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。 CMP(化学機械研磨)は研磨パッドを動かすことにより、スラリーがキャリアの凹凸を研磨することから、研磨パッドの材質や形状、各種物性値等が研磨特性に大きく関わってきます。本調査ではCM

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CMP スラリー/Si ウェハー用ポリシング材 世界市場に関する調査結果2013

2013年05月27日 CMPスラリー/Siウェハー用ポリシング材 世界市場に関する調査結果2013 調査要綱矢野経済研究所では、次の調査要綱にてCMPスラリーとSiウェハー用ポリシング材の世界市場の調査を実施した。1.調査期間:2013年2月~4月2.調査対象:CMPスラリーメーカー、各種ポリシング材メーカー、原料メーカー3.調査方法:当社専門研究員による直接面談ならびに文献調査併用<CMPスラリーとは>CMPスラリーとは、半導体のCMP(Chemical Mechanical Polishi

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