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2012年12月10日パテント・リザルトフィードバック数：5

ナノインプリント、特許総合力トップ3は東芝、米・Molecular Imprints、キヤノン

【ナノインプリント】特許総合力トップ3は東芝、Molecular Imprints（米）、キヤノン　弊社はこのほど、日本に出願されたナノインプリント関連技術について、参入企業に関する調査結果をまとめました。　ナノインプリントとは、モールド（スタンパー、テンプレート）を樹脂に押しつけ、モールド上に形成されたパターンを樹脂に転写する技術で、1995年に米・プリンストン大学のChou教授により発明されました。微細加工に適しており、半導体リソグラフィ、光デバイス、記録メディア、MEMS技術等への応用が検

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